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“美国都造不出来，中国不可能造出来光刻机，永远都造不出来！”这句话出自中科大副院长朱士尧，这句话一出似乎给我们判了“死刑”。

然而，事实证明他说错了，光刻机真的被中国造出来了，可能结果所有人都意想不到！

中科大副院长：中国永远造不出光刻机

多年以前，中科大副院长在面对采访时提到了光刻机，十分坦然的说，中国造不出光刻机，永远都制造不出来。

接着他说出了原因，这个机器连美国的造不出来，我们想要造出来的确像天方夜谭。毕竟美国的硅谷作为世界科技发展中心，技术也走在世界前端，很多技术上我们都比不过。光刻机涉及的学科也非常多，这需要国家整体实力十分强大，而我们国家的与美国对比至少相差50年甚至上百年时间。

光刻机太大了，仅一个机器体积就能够与一台集装箱相媲美！

想要制造一个如此庞大的机器，里面的零件更是复杂而多样，仅仅是材料的准备，就需要准备很长一段时间。

虽然荷兰表面上拥有了光刻机，但实际上确实结合了十几个甚至更多国家的力量与顶级工艺、技术，才组装成一台机器。机器非常复杂，里面每一个部件都十分精密，甚至精密到头发丝的几千分之一，想要仅以一国的技术跟力量制作出来是不可能的，就连美国也做不到。

朱士尧十分笃定地说，世界上没有任何国家能做到，如果说可以做到，是什么都不懂的人吹牛的。

他说这一句话时并非妄自菲薄，看不起中国的技术，而是结合当时的情况说出了大实话，但这一句话可能说的太绝对了，似乎给中国技术判了“死刑”。

光刻机技术真的有这么难吗？

那么，不妨让我们更深入了解一下这台神奇的机器，看看市面上已经出现的光刻机究竟是如何制造出来的。

光刻机，科学界的“神话”！

光刻机，顾名思义，它是利用光刻技术来制作集成电路的机器。

若是拆开手机、电脑等电子产品，会发现里面有一块小小的芯片，芯片上分布着复杂的电路，上面的焊点数不胜数，正是这小小的一块芯片，是电子产品的“大脑”，如果没有芯片，我们所有的电子产品将无法运转。

芯片的难点是如何在硅片上制作出设计好的电路图样，而光刻技术，是半导体制造行业的核心技术恰好解决了这一难题，它是芯片生产之中最复杂、最关键的工艺步骤。

光刻机的历史可以追溯到1881年，一位德国科学家马克斯发明出了第一台，能够使用光学原理，使用光在透明的材料上照射出图案，能够完成印刷。

在受到这一原理的启发后，科学家们试图将这一技术用在更加紧密的仪器上，开启了探寻之路。1952年美国科学家研发的电子束，成功利用光的原理在硅片上刻出了图案，获得了历史性进展，不过此时的技术只能算开发了冰山一角。

随着各个国家在技术上的更新迭代，美国Cymer跟荷兰ASML公司相继成立，开始研发高精光刻技术。

由于该技术对精度要求非常高，也是半导体核心设备，一直以来都被誉为科技中的“神话”，众多国家可望不可及。

中国已经研发出光刻机，是真是假？

我国自50年代以来，一直都致力于研发突破光刻机技术，但经历了很长一段时间都未能获得进展，这也不由得让不少人失去了信心，认为我们真的造不出来了，半导体行业依旧要被国外“卡脖子”。

在当今信息飞速发展时间，半导体已经成为了国家科技、经济甚至是国防的重要支柱。在全球浪潮中，技术的竞争愈发白热化，只有技术走在前面，才能够把控市场，获得立足之地。

但不得不承认，光刻机的技术在21世纪依旧面临着挑战，尤其是更高精度的技术，这影响电路性能和产能，越先进的技术越能够实现更小电路尺寸，以此提高集成度以及性能。

很长一段时间，技术被牢牢把握在荷兰跟日本，我们只能够依赖进口。因此，国家也想要尽快找到突破，能够掌握自己的核心技术，不再受限。

其中，纳米技术的结合应用备受瞩目，能够通过机械方式将图片压印到半导体基片上，不仅设备简单，成本低，分辨率还高。

因此，我国在研发上着重攻克纳米技术，NIL便是较为先进的一种。其原理也较为简单，使用物理压印将模具的图案转移到基片或底材上。

使用物理原理来完成印压，这意味着我们不需要像传统意义的光刻机一样使用复杂的光源，“另辟蹊径”之路也给我们的产业带来重大影响，或将走出属于我们自己的另一条技术道路。

在我国近1-2年时间似乎都没有听过好消息的传来，不由得让很多人都忘了这一回事。但近期有消息传出，说我国在光刻机上获得了重大突破，并且已经研发出光刻机了，这究竟是真是假呢？

这一好消息的来自2024年9月9日，我国工业和信息化部发表的一则通知。通知上透露了我国2024年重大技术装备推广应用指导，其中有一项包含了光刻机。电子专用设备之中，很明显看到了氟化氩光刻机五个大字。

从标题之中不难看出，已经进入了推广应用阶段，这也就意味着设备已经研发生产出来了！

氟化氩光刻机是新一代DUV，ArF光源波长193nm缩短到134nm。从荷兰ASML21年的财务报告中不难看出，近几年这一设备在行业内都是中流砥柱的存在。DUV他们公司在产品线上的销售额占比达到了60%。

近些年来，随着物联网、新能源、AI等技术的高速发展，技术上的需求越来越多，半导体的应用也随之越来越高，掌握了核心技术就意味着拥有一棵摇钱树。

近些年中国飞速发展，也引发了一些国家的忌惮，美国为了限制我国的发展，已经开始禁运DUV。如今，我国DUV光刻机的面世或给我们带来重大转机。

从工业和信息化部发表文件之中能看到分辨率为65纳米，若是将这一机器对标荷兰ASML的产品跟TWINSCANXT:1460K基本达到了同样的技术。

目前，世界上最先进的光刻技术是ASML公司的2000i，我国的这一机器与之相差2代。

我国除了DUV获得突破之外，在EUV上也公开了专利。上海微电子公司的EUV设备于专利2023年3月9日申请，2024年9月10日已经进入了申请公布阶段，这也意味着我国在EUV技术上获得了关键性突破。

这两个好消息的传来彻底打破了当初陈院士下的定论，谁说中国造不出光刻机？这不是造出来了嘛！

光刻机不仅对电子设备有重要意义，更在生物医学、光学等等领域意义重大，也将为我国的科技创新跟产品升级提供新动力。

大家还知道我国光刻机哪些新消息？不妨留言评论，跟大家一起分享。

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参考资料：

纳米压印光刻技术在中国半导体领域的应用与挑战_杨志伟 知网 2024-06-15

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