中方对荷兰扩大光刻机管制表示不满
⭐发布日期:2024年09月29日 | 来源:全民小视频
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本报特约记者 文 简
针对荷兰6日宣布扩大对先进半导体制造设备的出口管制,中国商务部新闻发言人8日表示,荷方在2023年半导体出口管制措施的基础上,进一步扩大对光刻机的管制范围,中方对此表示不满。
荷兰半导体设备制造商阿斯麦日前表示,荷兰政府此次管制适用于其NXT:1970i和1980i 浸润式DUV(深紫外)光刻系统。美媒称,在荷兰宣布新决定的前一天,美国公布更新的出口规则,收紧对量子计算和半导体制造设备等关键技术的出口管制。荷兰更新的相关条款中采用了美国的措辞。在美国的压力下,荷兰政府不允许阿斯麦向中国客户出口其最先进的EUV(极紫外)设备,并从2023年9月开始限制NXT:2000系列及更好的DUV设备出口。2023年10月,美国单方面开始限制1970i和1980i的出货。路透社称,荷兰的新规则与美国去年单方面的出口限制保持一致。
对此,中国商务部发言人表示,中方注意到相关情况。近来,中荷双方就半导体出口管制问题开展了多层级、多频次的沟通磋商。荷方在2023年半导体出口管制措施的基础上,进一步扩大对光刻机的管制范围,中方对此表示不满。近年来,美国为维护自身全球霸权,不断泛化国家安全概念,胁迫个别国家加严半导体及设备出口管制措施,严重威胁全球半导体产业链供应链稳定,严重损害相关国家和企业正当权益,中方对此坚决反对。
发言人还说,荷方应从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发,尊重市场原则和契约精神,避免有关措施阻碍两国半导体行业正常合作和发展,不滥用出口管制措施,切实维护中荷企业和双方共同利益,维护全球半导体产业链供应链稳定。▲返回搜狐,查看更多
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Injai
9秒前:▲返回搜狐,查看更多
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余昊洋
5秒前:路透社称,荷兰的新规则与美国去年单方面的出口限制保持一致。
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王若伊
1秒前:责任编辑:
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